半導体装置 – FEOLフォトリソグラフィ
最先端の光学・機械材料とコンポーネントを使用して、スループットと歩留まりを最大化する装置を構築します。
- 極めて高い安定性 熱的に革新的な材料をベースにしたコンポーネントを使用して、ウェハ処理ツールを構築します。
- 耐久性のある材料 多結晶CVD DIAMONDウィンドウなどの長寿命の光学部品のメリットを活用できます。
- より厳しい公差 反応結合シリコンカーバイド（RB SiC）をベースとした最も平坦なウェハテーブルのメリットを活用できます。
よい高い分解能
極端紫外線（EUV）リソグラフィは、5 nmおよびそれ以下の機能をICに搭載します。しかし、この分解能に到達するには、振動安定性、熱クリープ、ウェハテーブルの平坦性など、リソグラフィシステムのあらゆる部分に高い要求が課されます。Coherentは、これらの要件に適合する性能を備えた機械・光学メカニカルコンポーネントを作り出すために、ハイブリッドセラミックやシリコンカーバイドなどの革新的な材料を取り入れてきた先駆者です。また当社は、EUV放射線特有の要求に対応する光学部品も提供しています。
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