エキシマレーザ

高エネルギーUVパルスをマイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、理科学研究、メディカル、薄膜加工にご活用いただけます。


  • 大型フィールドサイズの加工 均一な大面積のフラットトップビームでサンプル表面を覆います。
  • 調整可能なUV出力 試作品から大量生産まで、適切な出力レベルに対応します。
  • 卓越した精度 低温薄膜加工で、レーザエネルギーを選択的に照射できます。
Excimer Lasers Line Drawing

豊富なエキシマレーザのポートフォリオ

当社は50年にわたるエキシマレーザの経験から、お客様がアプリケーションに合ったエキシマレーザを利用すれば、最高の結果が得られることを確信しています。 そのため当社では、優れた品質と性能を備えた、幅広いレーザ出力とエネルギーの選択肢をご用意しています。

エキシマレーザ製品シリーズ

ExciStar Product Image

ExciStarテーブルトップ型UVエキシマレーザは、角膜アブレーションや処方レンズマーキング、光学センサー製造などの繊細な作業向けに設計されています。

高繰返周波数:最大1 kHz。 テーブルトップ型:650 x 300 mmのコンパクトなデザイン。 193 nmまたは248 nm:高精度マーキングとアブレーション。
IndyStar Product Image

IndyStarレーザは、インクジェットノズルの穴あけ、計測、光学試験などの高速パルスを必要とするアプリケーション用に設計された、堅牢で高デューティサイクルのUVエキシマレーザです。

高パルスレート:24時間365日の稼働が求められる用途で最大2 kHzの高パルスレートを実現。 半導体用途に最適:Semi-S2準拠し。 193 nmモデルと248 nmモデル:リソグラフィ開発、マスク、光学系のテスト、微細加工。
COMPex Product Image

COMPex UVレーザは、要求の厳しいアプリケーション向けに、数百mJのパルスエネルギーを高パルス間安定性および優れたビーム均一性とともに提供します。

高エネルギー:数百mJ。 波長の汎用性:193 nm、248 nm、308 nm、351 nm。 薄膜加工に対応:ウェハ加工やパルスレーザ成膜(PLD)。

LEAP UVエキシマレーザは、高エネルギー、高精度加工に加え、高デューティサイクル出力、高信頼性、低所有コストという条件をすべて実現します。

出力レベルの幅広い選択肢:同一プラットフォームで、最大300ワットまでの大量生産、試作、開発をサポート。 パルスオンデマンド機能:パルスパターンを加工フローに適合させて、運用コストを最小限に抑えることができます。 汎用性:パルスレーザ成膜(PLD)、マイクロストラクチャリング、ディスプレイ加工に適した193 nm、248 nm、308 nmのモデルから選択可能。
LAMBDA SX Product Image

LAMBDA SXは、生産現場向けの産業用UVエキシマレーザです。安定した高エネルギーパルスにより、安定したビームで大面積のUV加工に対応します。

高出力:最大600ワット。 高パルスエネルギー:最大1000 mJ。 高パルス・レート:最大600 Hzで3シフトの大量生産。
Vyper Product Image

VYPERの1~マルチkW UVエキシマレーザプラットフォームは、大量のディスプレイ生産に求められる非常に高いスループットを実現します。

超高出力:最大3600ワット。 1パルスあたり最大6ジュールの非常に高いパルスエネルギー。 比類のないエネルギー安定性:有機ELおよびMicroLEDバックプレーン加工に対応。
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