エキシマレーザ
高エネルギーUVパルスをマイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、理科学研究、メディカル、薄膜加工にご活用いただけます。
- 大型フィールドサイズの加工 均一な大面積のフラットトップビームでサンプル表面を覆います。
- 調整可能なUV出力 試作品から大量生産まで、適切な出力レベルに対応します。
- 卓越した精度 低温薄膜加工で、レーザエネルギーを選択的に照射できます。
豊富なエキシマレーザのポートフォリオ
当社は50年にわたるエキシマレーザの経験から、お客様がアプリケーションに合ったエキシマレーザを利用すれば、最高の結果が得られることを確信しています。 そのため当社では、優れた品質と性能を備えた、幅広いレーザ出力とエネルギーの選択肢をご用意しています。
エキシマレーザ製品シリーズ
ExciStarテーブルトップ型UVエキシマレーザは、角膜アブレーションや処方レンズマーキング、光学センサー製造などの繊細な作業向けに設計されています。 |
高繰返周波数：最大1 kHz。 | テーブルトップ型：650 x 300 mmのコンパクトなデザイン。 | 193 nmまたは248 nm：高精度マーキングとアブレーション。 |
IndyStarレーザは、インクジェットノズルの穴あけ、計測、光学試験などの高速パルスを必要とするアプリケーション用に設計された、堅牢で高デューティサイクルのUVエキシマレーザです。 |
高パルスレート：24時間365日の稼働が求められる用途で最大2 kHzの高パルスレートを実現。 | 半導体用途に最適：Semi-S2準拠し。 | 193 nmモデルと248 nmモデル：リソグラフィ開発、マスク、光学系のテスト、微細加工。 |
COMPex UVレーザは、要求の厳しいアプリケーション向けに、数百mJのパルスエネルギーを高パルス間安定性および優れたビーム均一性とともに提供します。 |
高エネルギー：数百mJ。 | 波長の汎用性：193 nm、248 nm、308 nm、351 nm。 | 薄膜加工に対応：ウェハ加工やパルスレーザ成膜(PLD)。 |
LEAP UVエキシマレーザは、高エネルギー、高精度加工に加え、高デューティサイクル出力、高信頼性、低所有コストという条件をすべて実現します。 |
出力レベルの幅広い選択肢：同一プラットフォームで、最大300ワットまでの大量生産、試作、開発をサポート。 | パルスオンデマンド機能：パルスパターンを加工フローに適合させて、運用コストを最小限に抑えることができます。 | 汎用性：パルスレーザ成膜(PLD)、マイクロストラクチャリング、ディスプレイ加工に適した193 nm、248 nm、308 nmのモデルから選択可能。 |
LAMBDA SXは、生産現場向けの産業用UVエキシマレーザです。安定した高エネルギーパルスにより、安定したビームで大面積のUV加工に対応します。 |
高出力：最大600ワット。 | 高パルスエネルギー：最大1000 mJ。 | 高パルス・レート：最大600 Hzで3シフトの大量生産。 |
VYPERの1～マルチkW UVエキシマレーザプラットフォームは、大量のディスプレイ生産に求められる非常に高いスループットを実現します。 |
超高出力：最大3600ワット。 | 1パルスあたり最大6ジュールの非常に高いパルスエネルギー。 | 比類のないエネルギー安定性：有機ELおよびMicroLEDバックプレーン加工に対応。 |
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