パルスレーザ成膜（PLD）
当社独自の高出力エキシマレーザで、パルスレーザ成膜（PLD）を使用してさまざまなタイプの膜を迅速に作成してください。
- 化学量論的膜 当社の安定したエキシマレーザなら、全体的な層厚制御を行いながら化学量論的な層が取得できます。
- より速い成膜 当社のエキシマレーザの高パルスエネルギーは、大面積のフィルムをより速く作成します。
- 3シフトパルスレーザ成膜（PLD） 当社のレーザの実績ある稼働率と信頼性は、24時間365日の生産を実現します。
多用途の成膜
有機ELディスプレイ、MEMS、半導体、太陽光発電、メディカルセンサー、携帯電話、先進バッテリーなど、薄膜に依存する技術や産業は増え続けています。パルスレーザ成膜（PLD）は、ダイヤモンドライクカーボン（DLC）、ペロブスカイト、圧電体、高温超伝導体（HTS）などさまざまな材料に適しており、しばしば選択される製造方法です。これらのすべてのケースにおいて、当社のエキシマレーザは、高速、正確な深さ制御、高精度の化学量論によるパルスレーザ成膜（PLD）を可能にします。
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製品の用途
パルスレーザ成膜（PLD）製品
ビデオスポットライト：
エンスヘーデ、Solmatesの薄膜装置用高出力エキシマレーザ
オランダのエンスヘーデにあるSolmates社のArjen Janssens氏らは、高出力のLEAPシリーズエキシマレーザを使用して、将来のチップ設計の開発と新しい薄膜材料の統合に重要な役割を果たす革新的なパルスレーザ蒸着装置を開発しています。薄膜産業におけるレーザ技術の詳細をご覧ください。
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