UVレーザシステム
独自の高エネルギーUVレーザを、LTPS、LLO、LIFT、PLD、LA-ICP-MSなどに対して構成された完全な光学システムで最大限に活用します。
- 垂直統合 長寿命のレーザ、オプティクス、構造により、リスクを回避し、24時間365日動作可能。
- 実績のある産業用ツール 高性能モバイルディスプレイと同じ実現技術を採用。
- UV波長オプション 193 nm、248 nm、308 nmシステムと、カスタム157 または351 nmオプションから選択可能。
UVレーザプロセスで当社の専門知識を活用
50年にわたるUVレーザと光学システムの経験から、当社はエキシマレーザビームの管理、形成、集束に関する課題に精通しています。 当社では、垂直統合を活用して、最も厳しい基準に合わせてシステム全体の設計、製造、組み立てを行っています。
UVレーザ製品シリーズ
MicroLEDディスプレイ製造のための3つの要素を兼ね備えた独自のシステム。レーザリフトオフ（LLO）、レーザ誘起前方転写（LIFT）、リペア/トリミングすべてが高スループットで実現します。 |
3つの要素を兼ね備えている価値 - 1つのシステムで3つのプロセスすべてに対応。 | 高スループット - 高エネルギーエキシマレーザによる大型フィールドサイズのサポート。 | 未来につながる - 50 ～ 5 µmのダイのサイズを処理。 |
LineBeamエキシマUVレーザでは、高い生産力で大きな下地パネルの低温ポリシリコン（LTPS）バックプレーンを大量製造できます。 |
長いラインビーム - 最大1500 mm。 | 高い均一性 - 0.6% (2σ)。 | 焦点深度が大きい - 最大±150 µm。 |
UVbladeエキシマレーザは、光効率が良く、ライン長とエネルギー密度の拡張性に優れた、コスト効率の高いソリューションをLLOに提供します。 |
高い均一性 - 1.8%。 | 焦点深度が大きい - 最大±200 µm。 | 高パルスエネルギー - 最大2000 mJ。 |
高パルスエネルギー、短紫外波長、高出力のユニークな組み合わせに最適化されたエキシマビーム伝送用の優れたオプトメカニカルツールを入手してください。 |
ビームの均一化 - 流れの変動が5%以下。 | 可変減衰 - 正確なエネルギー制御。 | 画像投影のマスク - 4～10Xの縮小倍率。 |
VarioLasエキシマUVレーザは、強力なCOMPexエキシマレーザをベースに、ラインビームまたはスクエアビームフィールド形状による高品質UV微細加工を実現します。 |
高エネルギー密度 - 最大7.5（J/cm²）。 | 多目的かつ調整可能 - ラインまたはスクエアプロファイル。 | 高い光学分解能 - ≥ 5 µm。 |
GeoLasGCエキシマUVシステムは、193 nmパルス、高性能偏光顕微鏡、HDカメラ観察を組み合わせて、レーザアブレーションICP-MSを実現します。 |
高い光学分解能 - 1 µm。 | 多目的サンプルスポット2 - 160 µm。 | 優れたパルス安定性 - 1%（rms）。 |
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MicroLEDディスプレイとは。
MicroLED（µLED）は、鮮やかな高解像度ディスプレイを生成する比較的新しい技術です。 今後5年間で、µLEDディスプレイは100億ドルを超える市場に成長し、レーザはその生産を可能にする上で重要な役割を果たします。
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