엑시머 UV 시스템

LTPS, LLO, LIFT, PLD, LA-ICP-MS 등을 위해 구성된 완전한 광학 시스템으로 당사 고유의 고에너지 UV 엑시머 레이저를 최대한 활용하십시오.

  • 수직 통합 수명이 긴 레이저, 광학 및 역학으로 위험을 피하고 연중무휴 작동을 즐기십시오.
  • 입증된 산업용 툴 고성능 모바일 디스플레이를 만드는 것과 동일한 기술을 사용할 수 있습니다.
  • UV 파장 옵션 193, 248, 308 nm 시스템과 맞춤형 157 또는 351 nm 옵션 중에서 선택하십시오.
UV Excimer Laser Line Drawing

엑시머 UV 공정에 우리의 노하우를 접목

UV 레이저 및 광학 시스템 분야에서 50년의 경험을 통해 당사는 엑시머 빔의 관리, 형성 및 포커싱하는 문제를 이해하고 있습니다. 수직적 통합 덕분에 당사는 가장 엄격한 표준에 따라 완전한 시스템을 설계, 제조 및 조립합니다.

엑시머 UV 제품군

UVtransfer product image

MicroLED 디스플레이 제조를 위한 고유한 3-in-1 시스템으로 LLO(레이저 리프트 오프), LIFT(레이저 유도 순방향 전송) 및 수리/트리밍을 모두 높은 처리량으로 가능하게 합니다.

3-in-1 가치 - 세 가지 프로세스 모두를 위한 단일 시스템. 높은 처리량 - 고에너지 엑시머 레이저는 넓은 필드 크기를 지원합니다. 미래를 대비 - 50에서 5 µm까지의 다이 크기를 처리합니다.
LineBeam VYPER

LineBeam 엑시머 UV 레이저를 사용하면 최대 수율로 대형 기판 패널에서 저온 폴리실리콘(LTPS) 백플레인을 대량 생산할 수 있습니다.

라인 빔 - 최대 1500mm. 균질성 - 0.6%(2σ). 초점 깊이 - 최대 ±150 µm.
UVblade product image

UVblade 엑시머 레이저는 라인 길이 및 에너지 밀도에서 높은 광학 효율성과 광범위한 확장성을 갖춘 비용 효율적인 LLO 솔루션을 제공합니다.

균질성 - 1.8% 초점 깊이 - 최대 ±200 µm. 펄스 에너지 - 최대 2000mJ.
UV Optical Components Product Image

높은 펄스 에너지, 짧은 UV 파장 및 고출력의 고유한 조합에 최적화된 엑시머 빔 전달을 위한 우수한 광기계 툴 출력.

빔 균질화 - <± 5% 플루언스 변동. 가변 감쇠 - 정확한 에너지 제어. 마스크 이미지 투영 - 4-10X 축소.
VarioLas Product Image

VarioLas 엑시머 UV 레이저는 강력한 COMPex 엑시머 레이저를 기반으로 라인 빔 또는 사각 빔 필드 형태의 고품질 UV 미세 가공을 위한 것입니다.

에너지 밀도 - 최대 7.5J/cm². 다목적 및 조정 가능 - 선 또는 정사각형 프로파일. 광학 해상도 - ≥ 5 µm.
GeoLas Pro Product Image

GeoLasHD 엑시머 UV 시스템은 193nm 펄스, 고성능 편광 현미경 및 레이저 절제 ICP-MS를 위한 HD 카메라 관찰을 결합합니다.

광학 해상도 - 1 µm. 가변 샘플 스폿 - 2 ~ 160 µm. 펄스 안정성 - 1%(rms).
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