レーザマシンとシステム

UVblade


UVbladeは、308 nm UV光子を使用して、レーザリフトオフ(LLO)プロセスで、繊細なポリマーベースのディスプレイをレーザ堅牢なガラスキャリアからソフトに分離。 

LLOは、フレキシブルディスプレイ製造では不可欠なステップです。UVbladeは、コスト効率の良いソリューションをLLOに提供します。 UVbladeは光効率が高いだけでなく、ライン長とエネルギー密度の拡張性にも優れているため、プロセスの最適化が実現します。


UVblade – 主なパフォーマンス指標

UVbladeのビームは均一なシルクハット形分布(1.8%、2 σ)で、焦点深度が大きい(±200ミクロン)ため、大きなプロセスウィンドウと最大限の生産力を得られます。

 

製品仕様

UVbladeモデル 

UVblade 250 

UVblade 380 

UVblade 465 

UVblade 750 

UVblade 1000 

レーザパルスエネルギー(mJ) 

580  

580  

1000  

1000/2000(高出力モデル) 

2000  

繰返周波数(Hz) 

200 

200 

600 

600 

600 

ビーム長さ(mm) 

250 

380 

465 

750 

950