レーザマシンとシステム
UVblade
UVbladeは、308 nm UV光子を使用して、レーザリフトオフ（LLO）プロセスで、繊細なポリマーベースのディスプレイをレーザ堅牢なガラスキャリアからソフトに分離。
LLOは、フレキシブルディスプレイ製造では不可欠なステップです。UVbladeは、コスト効率の良いソリューションをLLOに提供します。 UVbladeは光効率が高いだけでなく、ライン長とエネルギー密度の拡張性にも優れているため、プロセスの最適化が実現します。
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UVblade – 主なパフォーマンス指標
UVbladeのビームは均一なシルクハット形分布（1.8%、2 σ）で、焦点深度が大きい（±200ミクロン）ため、大きなプロセスウィンドウと最大限の生産力を得られます。
