UV-Excimer-Systeme
Nutzen Sie die Vorteile unserer einzigartigen hochenergetischen UV-Excimer-Laser mit kompletten optischen Systemen, die für LTPS, LLO, LIFT, PLD, LA-ICP-MS und mehr konfiguriert sind.
- Vertikale Integration Vermeiden Sie Risiken und genießen Sie den rund-um-die-Uhr-Betrieb mit unseren langlebigen Lasern, Optiken und Mechaniken.
- Bewährte Industriewerkzeuge Verlassen Sie sich auf dieselbe Basistechnologie, die leistungsstarke mobile Displays herstellt.
- UV-Wellenlängenoptionen Wählen Sie aus 193-, 248- und 308-nm-Systemen sowie benutzerdefinierten 157- oder 351-nm-Optionen.
Unsere Expertise im Excimer-UV-Prozess
Mit 50 Jahren Erfahrung mit UV-Lasern und optischen Systemen verstehen wir die Herausforderungen bei der Verwendung, Formung und Fokussierung von Excimer-Strahlen. Dank vertikaler Integration konstruieren, fertigen und montieren wir komplette Systeme nach höchsten Standards.
UV-Excimer-Laser Produktfamilie
Ein einzigartiges 3-in-1-System für die Herstellung von MicroLED-Displays, das Laser-Schichtseparation (LLO), Laser-induzierte Vorwärtsübertragung (LIFT) und Reparatur/Trimming mit hohem Durchsatz ermöglicht. |
3-in-1-Wert – Ein System für alle drei Prozesse. | Hoher Durchsatz – Der Hochenergie-Excimer-Laser unterstützt große Feldgrößen. | Zukunftssicher – Bewältigt die Größen von 50 bis 5 µm. |
LineBeam Excimer-UV-Laser ermöglichen die Massenfertigung von Niedertemperatur-Polysilizium (LTPS)-Backplanes auf großen Substratplatten mit höchster Ausbeute. |
Langer Linienstrahl – Bis zu 1500 mm. | Hohe Homogenität – 0,6 % (2σ). | Große Brennweite – Bis zu ±150 µm. |
UVblade Excimer-Laser bieten eine kosteneffektive Lösung für LLO mit hoher optischer Effizienz und breiter Skalierbarkeit in Linienlängen und Energiedichte. |
Hohe Homogenität – 1,8 % | Große Brennweite – Bis zu ±200 µm. | Hohe Pulsenergie – Bis zu 2000 mJ. |
Holen Sie sich überlegene optomechanische Werkzeuge für eine optimierte Excimer-Strahlabgabe Für die einzigartige Kombination aus hoher Pulsenergie, kurzen UV-Wellenlängen und hoher Leistung. |
Homogenisieren eines Strahls – <± 5 % Fluenzschwankung. | Variable Dämpfung – Präzise Energiesteuerung. | Maskenbildprojektion – 4–10-fache Verkleinerung. |
VarioLas Excimer-UV-Laser basieren auf dem leistungsstarken COMPex-Excimer-Laser für die hochwertige UV-Mikromaterialbearbeitung mit Linienstrahl oder quadratischer Strahlfeldform. |
Hohe Energiedichte – Bis zu 7,5 J/cm². | Vielseitig und verstellbar – Linien- oder Vierkantprofil. | Hohe optische Auflösung – ≥ 5 µm. |
GeoLasHD Excimer-UV-Systeme kombinieren 193 nm-Pulse, ein leistungsstarkes Polarisationsmikroskop und HD-Kamerabeobachtung für die Laserablation ICP-MS. |
Hohe optische Auflösung – 1 µm. | Variabler Probenfleck – 2–160 µm. | Hohe Pulsstabilität – 1 % (rms). |
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