レーザマシンとシステム

UVblade

UVblade product image

UVbladeは、308 nm UV光子を使用して、レーザリフトオフ（LLO）プロセスで、繊細なポリマーベースのディスプレイをレーザ堅牢なガラスキャリアからソフトに分離。 

LLOは、フレキシブルディスプレイ製造では不可欠なステップです。UVbladeは、コスト効率の良いソリューションをLLOに提供します。 UVbladeは光効率が高いだけでなく、ライン長とエネルギー密度の拡張性にも優れているため、プロセスの最適化が実現します。

UVblade – 主なパフォーマンス指標

UVbladeのビームは均一なシルクハット形分布（1.8%、2 σ）で、焦点深度が大きい（±200ミクロン）ため、大きなプロセスウィンドウと最大限の生産力を得られます。

 

データシート

製品仕様

UVbladeモデル

UVblade 380

UVblade 750

UVblade 1250

レーザパルスエネルギー（mJ）

580  

1000/2000（高出力モデル） 

2000  

繰返周波数（Hz）

200 

600 

600 

ビーム長さ（mm）

380 

750 

1250

関連製品