光学系
1 µm用の高反射誘電体コーティング
近赤外線レーザ、高出力ファイバーレーザ、ダイレクト半導体レーザ伝送システムに、複雑な形状のミラーを形成するダイヤモンド旋削技術の力をもたらします。
ダイヤモンド旋削金属ミラーの特徴（内部水冷チャンネル、自由曲面、変形可能（可変半径）な表面）と高反射率、高レーザ損傷しきい値の全誘電体コーティングが組み合わさっています。
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誘電体高反射金属ミラーの機能
Cu、Al、真ちゅうメッキAl基板から選択し、形状、寸法、冷却要件をご指定いただけます。
代表的な誘電体高反射金属ミラーの仕様 |
|
基板材料 |
Cu、Al、真ちゅうメッキAl |
基板直径 |
最大300 mm |
波長範囲 |
1,030～1,070 nm |
反射率（面あたり） |
≥99.7%（1,030～1,070 nmの場合） ≥80%（600～700 nmの場合） |
レーザ損傷しきい値（Cu） |
≥200 MW/cm² CW |
環境パフォーマンス（MIL-C-48497に準拠） |
3.4.1.2湿度 3.4.1.3中程度の磨耗 3.4.1.3中程度の磨耗 |
研磨後の表面の仕様（オプション） |
λ/10の平坦度 10 Å RMSの表面粗さ |
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