Werkstoffe

III-V RF Epitaxiewafer

Verbessern Sie Effizienz, Bandbreite und Zuverlässigkeit bei der Herstellung von elektronischen Hochgeschwindigkeitskomponenten, indem Sie mit unseren konsistenten, hochleistungsfähigen III-V-Epitaxiewafern beginnen.

Coherent verfügt über umfangreiche Kapazitäten für die Entwicklung, das Design und die Herstellung von fortschrittlichen III-VI-Halbleiter-Epitaxiewafern. Wir ermöglichen Ihnen die einfache Integration von Technologien der nächsten Generation in Ihre Anwendung und unterstützen Sie bei der Serienproduktion.

RF-Wafer – Fähigkeiten

Beschaffen Sie 2-Zoll- bis 6-Zoll-Wafer für drahtlose Geräte, Rechenzentren, Hochgeschwindigkeits-Kommunikationsnetzwerke und mehr.

Gerätetyp

Basismaterial

Werkstofffähigkeit

Wafer-Durchmesser

EpiHBT®

GaAs

InGaP/GaAs, AlGaAs/GaAs

bis zu 150 mm

InP

InP/InGaAs

bis zu 100 mm

EpiBiFET®

GaAs

InGaP/GaAs, AlGaAs/GaAs

bis zu 150 mm

InP

InP/InGaAs, InP/InAlAs

bis zu 100 mm

EpiFET®

GaAs

AlGaAs/GaAs, InGaP/GaAs

bis zu 150 mm

InP

InP/InGaAs, InP/InAlAs

bis zu 100 mm