离子注入

离子注入制造服务

依靠我们的全方位服务合作伙伴关系来满足您的离子注入需求。我们可以可靠地支持任何批量的生产、任何应用程序并具备满足高峰期需求的能力。

Coherent 一流的离子注入制造工厂可以满足各种形式的注入要求,从 300 毫米晶圆的生产量到更小晶圆尺寸和芯片的研发,并且能够在化合物半导体衬底上进行加热注入。

关键能力

出色的体验

Coherent 借助业内经验丰富的离子注入应用团队来提供快速且具成本效益的方法,从而帮助客户在以下方面取得成功:

  • 硅和化合物半导体衬底
  • 加热和室温注入
  • 研发
  • 注入建模和工艺匹配
  • 小晶圆尺寸

值得信赖的合作伙伴

将 Coherent 作为您的注入合作伙伴可以带来以下好处:

  • 利用不断扩大或变化的市场
  • 从意外离子注入系统故障中恢复
  • 外包部分或全部离子注入工艺步骤
  • 支持 48 小时周转时间

综合材料

  • 砷化镓/磷化铟
  • 碳化硅
  • 氮化镓
  • 金刚石
  • 铌酸锂/钽酸锂
  • 锑化铟
  • 硒化锌
  • 二氧化硅/硅
Video Spotlight

Ion Implantation For Semiconductor Devices

Ion implantation is a technique where ions are accelerated to high speeds and then implanted into a semiconductor compound. This process allows precise control over electrical carrier levels and distributions allowing to tailor the electrical properties of the material with high accuracy. Coherent is the world's largest ion implantation foundry and offers various services to meet our clients' needs.