离子注入

离子注入制造服务

依靠我们的全方位服务合作伙伴关系来满足您的离子注入需求。我们可以可靠地支持任何批量的生产、任何应用程序并具备满足高峰期需求的能力。

从 300 毫米晶圆量产到更小晶圆尺寸和芯片的研发,Coherent 高意一流的离子注入制造工厂可以满足各种形式的注入要求,并且能够在化合物半导体衬底上进行加热注入。

关键能力

出色的体验

Coherent 高意借助业内经验丰富的离子注入应用团队来提供快速且具成本效益的方法,从而帮助客户在以下方面取得成功:

  • 硅和化合物半导体衬底
  • 加热和室温注入
  • 研发
  • 注入建模和工艺匹配
  • 小晶圆尺寸

值得信赖的合作伙伴

将 Coherent 高意作为您的注入合作伙伴可以带来以下好处:

  • 利用不断扩大或变化的市场
  • 从意外离子注入系统故障中恢复
  • 外包部分或全部离子注入工艺步骤
  • 支持 48 小时周转时间

综合材料

  • 砷化镓/磷化铟
  • 碳化硅
  • 氮化镓
  • 金刚石
  • 铌酸锂/钽酸锂
  • 锑化铟
  • 硒化锌
  • 二氧化硅/硅

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精选视频

通过离子注入推动光子学的未来

从智能手机中的人脸识别到 AI 驱动数据中心中的高速数据,当今的互联世界都在使用精确激光器。这些先进的光子器件是现代传感和通信的基础。

本视频重点介绍了离子注入如何提高激光器性能,从而实现紧密聚焦光束、提高热稳定性和先进的多结设计。它在隔离激光器通道、减少串扰和提高速度和可靠性方面发挥着至关重要的作用。

您还将了解 VCSEL 和 EEL 有何不同,以及为什么两者对于尖端应用至关重要。Coherent 高意拥有数十年的专业知识和全球晶圆代工厂模式,提供从仿真到大批量晶圆加工的端到端离子注入服务,帮助您更快、更智能地进行创新。

▶️ 立即观看离子注入如何塑造光子学的未来,以及相干公司如何帮助提升您的设计。

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半导体器件的离子注入

离子注入是一种将离子加速到高速然后注入半导体化合物的技术。该工艺可以精确控制电载体水平和分布,从而能够高精度地定制材料的电气特性。Coherent 高意是世界上最大的离子注入晶圆代工厂,提供各种服务以满足客户的需求。