엑시머 레이저
마이크로일렉트로닉스, 디스플레이, 과학 연구, 의학 및 박막 가공에 고에너지 UV 펄스를 활용합니다.
- 대규모 필드 가공 균일하게 넓은 평평한 상단 빔으로 샘플 표면을 덮습니다.
- 확장 가능한 UV 출력 사전 생산에서 대량 생산까지 출력 수준을 조정합니다.
- 최고의 정밀도 저온 박막 공정에서 레이저 에너지를 선택적으로 증착합니다.
광범위한 엑시머 레이저 포트폴리오
엑시머 레이저 분야에서 50년의 경험을 통해, 용도에 맞는 엑시머 레이저로 최상의 결과를 얻을 수 있다는 것을 알고 있습니다. 이것이 바로 우리가 우수한 품질과 성능을 갖춘 가장 광범위한 레이저 출력 및 에너지 옵션을 제공하는 이유입니다.
엑시머 레이저 제품군
ExciStar 탁상용 UV 엑시머 레이저는 각막 절제, 처방 렌즈 마킹 및 광학 센서 제조 같은 정교한 작업을 위해 설계되었습니다. |
고반복률 - 최대 1kHz | 테이블탑 - 필요 공간 650x300mm. | 193nm 또는 248nm - 정밀 마킹 및 어블레이션. |
IndyStar 레이저는 잉크젯 노즐 드릴링, 계측 및 광학 테스트 같은 고속 펄스 용도에 적합하게 설계된 견고한 고성능 사이클 UV 엑시머 레이저입니다. |
High Pulse Rate - 연중무휴 작업에도 최대 2kHz. | Semicon 용도 - Semi-S2 준수. | 193nm 및 248nm - 리소그래피 개발, 마스크 및 광학 테스트, 마이크로프로세싱. |
COMPex UV 레이저는 까다로운 용도에 적합한 높은 펄스간 안정성과 탁월한 빔 균일성으로 수백 밀리줄의 펄스 에너지를 제공합니다. |
고에너지 - 수백 밀리줄. | 다양한 파장 - 193nm, 248nm, 308nm, 351nm. | 박막 가공 지원 - 웨이퍼 가공, 펄스 레이저 증착. |
LEAP UV 엑시머 레이저는 높은 듀티 사이클 출력, 신뢰성 및 낮은 소유 비용의 조합으로 고에너지, 고정밀 가공을 제공합니다. |
다양한 출력 선택 - 동일한 플랫폼에서 최대 300W의 대량 제조, 사전 생산 및 개발을 지원합니다. | Pulse-on-Demand - 펄스 패턴을 공정 흐름에 맞게 조정하여 운영 비용을 최소화합니다. | 다목적 - 펄스 레이저 증착, 미세 가공 또는 디스플레이 가공을 위해 193nm, 248nm 및 308nm 모델 중에서 선택합니다. |
LAMBDA SX는 생산 현장에 사용할 수 있는 산업용 UV 엑시머 레이저이며, 빔 안정성과 함께 대면적 UV 처리를 지원하는 안정적인 고에너지 펄스를 갖추고 있다. |
고출력 – 최대 600W | 펄스 에너지 - 최대 1000mJ. | High Pulse Rate - 최대 600Hz로 3교대 대량 생산. |
수 kW까지 제공하는 VYPER UV 엑시머 레이저 플랫폼은 디스플레이를 대량 생산할 수 있도록 최고의 처리량을 지원합니다. |
초고출력 – 최대 3600W. | 매우 높은 펄스 에너지 - 펄스당 최대 6J. | 탁월한 에너지 안정성 - OLED 및 MicroLED 백플레인 가공을 지원합니다. |
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