이온 주입

이온 레이저 주입 파운드리 서비스

Ion Implantation Foundry Services

종합 이온 레이저 주입 서비스는 Coherent에게 맡기세요. 규모와 분야에 관계 없이 안정적으로 지원할 수 있으며 수요 급증에 대응할 수 있는 용량을 제공합니다.

세계적 수준의 Coherent 이온 주입 파운드리는 300mm 웨이퍼 생산량부터 더 작은 크기의 웨이퍼와 칩에 대한 R&D, 화합물 반도체 기판의 가열 주입에 이르기까지 모든 형태의 주입 요구사항을 충족할 수 있습니다.

주요 기능

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기술 문서
특허

비교할 수 없는 경험

Coherent는 업계에서 가장 경험이 풍부한 이온 임플란트 애플리케이션 팀을 활용하여 고객의 성공을 최적화할 수 있는 가장 빠르고 비용 효율적인 방법을 제공합니다.

  • 실리콘 및 화합물 반도체 기판
  • 가열 및 상온 임플란트
  • 연구 및 개발
  • 임플란트 모델링 및 공정 매칭
  • 소형 웨이퍼

믿을 수 있는 파트너

Coherent를 임플란트 파트너로 이용하는 방법:

  • 시장 확장 또는 변화의 기회 활용
  • 예기치 않은 이온 임플란트 시스템 장애 복구
  • 이온 임플란트 공정 단계의 일부 또는 전체 아웃소싱
  • 48시간의 처리 시간 지원

종합적인 자료

  • 실리콘
  • GaAs/InP
  • SiC
  • GaN
  • Diamond 시리즈
  • LiNbO3/LiTaO3
  • InSb
  • ZnSe
  • SiO2/Si

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이온 이식으로 포토닉스의 미래 강화

스마트폰의 안면 인식부터 AI 기반 데이터센터의 고속 데이터에 이르기까지 오늘날의 연결된 세상은 정밀도 레이저로 실행됩니다. 이러한 고급 포토닉 장치는 현대적인 감지 및 통신의 기반입니다.

이 동영상에서는 이온 주입이 레이저 성능을 향상시키는 방법을 강조하여 엄격하게 초점을 맞춘 빔, 향상된 열 안정성 및 고급 다중 접합 설계를 가능하게 합니다. 레이저 채널 격리, 누화 감소, 속도와 신뢰성 향상에 중요한 역할을 합니다.

또한 VCSEL과 EEL이 어떻게 다른지, 그리고 둘 다 최첨단 응용 분야에 필수적인 이유에 대해서도 배우게 됩니다. 수십 년의 전문성과 글로벌 파운드리 모델을 갖춘 Coherent는 시뮬레이션부터 대량 웨이퍼 가공에 이르기까지 엔드 투 엔드 이온 주입 서비스를 제공하여 더 빠르고 스마트하게 혁신할 수 있도록 지원합니다.

▶️ 이온 주입이 어떻게 포토닉스의 미래를 만들어가고 있는지, 그리고 Coherent가 어떻게 설계를 향상시키는지 지금 시청하십시오.

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