PLD (Pulsed Laser Deposition)
당사 고유의 강력한 엑시머 레이저로 펄스레이저 증착법(PLD)을 수행합니다.
- 화학량론적 PLD 화학양론적 PLD 결과를 위해 견고한 COMPex 레이저를 사용합니다.
- 광역 PLD 당사의 고출력 LEAP 레이저는 고성능 박막의 넓은 영역을 제공합니다.
- 3 시프트 PLD 현장에서 입증된 엑시머 레이저가 제공하는 가동 시간과 수명의 이점을 누리십시오.
고온 초전도(HTS) 테이프
엑시머 기반 PLD는 다층 HTS 테이프에 필요한 품질의 희토류 바륨 구리 산화물(REBCO) 필름을 만드는 유일하게 검증된 대량 생산 방식입니다.
5G용 무선 주파수
필터
엑시머 레이저 PLD는 RF 필터에 사용되는 압전 스칸듐이 도핑된 알루미늄 질화물(Sc: AlN) 박막 필름으로 5G 이상에 필요한 압전 반응 및 고주파 RF 특성을 제공합니다.
다이아몬드 탄소(DLC)층
엑시머 레이저는 저온 PLD 공정에서 수소가 없는 DLC층을 생성하며 엑시머 레이저 어닐링을 통해 광범위한 물질에 대한 탁월한 접착력을 보장합니다.
박막 필름 웨이퍼
엑시머 레이저 PLD는 MEMS, 반도체, 광전지 및 OLED 디스플레이에 사용하기 위해 더 큰(최대 300mm) 웨이퍼에서 보다 복잡한 결정 박막 필름을 생성할 수 있습니다.
고체 박막 필름 배터리
PLD는 나노미터 범위의 두께 정밀도뿐만 아니라 밀도 및 화학량 조절이 가능한 음극 및 양극 재료를 포함한 첨단 고체 전해질을 제공합니다.
투명 전도성 산화물
(PLD)는 매우 균일한 투명 전극을 민감한 유기층 위에 부드럽게 증착하여 완충층 없는 반투명 페로브스카이트 태양광 셀을 가능하게 합니다.
비디오 스포트라이트:
엔스헤데에 있는 Solmates의 박막 필름 장비용 고출력 엑시머 레이저
네덜란드 엔스헤데에 위치한 Solmates의 Arjen Janssens와 동료들은 고출력 LEAP 시리즈 엑시머 레이저를 사용하여 미래형 칩 설계 개발 및 박막 필름용 신소재 통합에 핵심적인 역할을 할 혁신적인 펄스 레이저 증착(PLD) 장비를 개발하고 있습니다. 박막 필름 산업에서 사용되는 레이저 기술에 대해 자세히 알아보십시오.
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MicroLED 디스플레이 제조 혁신
Coherent의 새로운 UVtransfer 시스템은 LLO(Laser Lift-Off), LIFT(Laser-Induced Forward Transfer) 및 수리/트리밍을 통해 MicroLED 제조를 혁신하고 있습니다.
리소스 목록
엑시머 레이저를 이용한 초전도 와이어/테이프의 대량 생산
S-Innovations(러시아 모스크바)는 Coherent LEAP 300C 엑시머 레이저를 사용하여 펄스레이저 증착(PLD) 프로세스에 전력을 공급함으로써 사상 최대 규모의 초전도 YbCO 테이프를 제공했습니다.
S-Innovations에서는 LEAP 엑시머 레이저를 통해 레이저 와트당 실제 비용을 최소화하고 HTS 와이어를 저비용으로 대량 생산하고 있습니다.
안정적인 증폭기를 통해 강유전성 필름 편광에 대한 현장 연구 가능
연구원들이 Coherent Astrella/TOPAS를 성공적으로 사용하여 0에서 20단위 셀(u.c.)까지의 필름에서 편광 정도와 방향을 모두 결정한 방법을 확인하십시오.
증폭기의 열 안정성이 매우 중요합니다. 당사의 챔버는 내부적으로 최대 950°C에서 작동하며 긴 실험 기간 동안 실험실을 상당히 가열합니다. Astrella의 출력, 빔 형태 및 포인팅은 모두 이러한 주변 환경 변화의 영향을 받지 않습니다.
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