相干公司 COMPex F2： 超强大的真空紫外光源激光器
我们最新的 COMPex 准分子激光器能够在 157 nm 和 193 nm 两个波长上工作，烧蚀坚韧和/或透明材料。
2022 年 3 月 8 日，作者：相干公司
今天，我们将介绍相干公司 COMPex 系列的最新成员： 相干公司 COMPex F2 — 超强大的 VUV 激光器。
我们的新型双波长激光器可满足需要大功率真空紫外波长光源的应用需求。 具体来说，F2 提供 157 nm 或 193 nm 的直接输出，只需切换气源即可，从而较大限度提高了实用性和价值。
COMPex F2 的一些关键应用
- 岩样和冰样的 LA-ICP-MS 分析
- 特殊材料的脉冲激光沉积 (PLD)
- PDMS 和 PTFE (Teflon®) 的直接图案绘制和微加工
激光烧蚀 LA-ICP-MS（激光烧蚀电感耦合等离子体质谱法）是一种多功能工具，无需任何样品制备即可进行固体样品的元素组成分析。 许多岩样和北极冰样都需要 VUV。
PLD 是一种快速发展的薄膜沉积方法。 通过使用更短的波长，可以扩展层生成中的质谱。 这同样适用于材料加工领域。 在 157 nm 和 193 nm 波长下，即使是在高纯度石英、聚二甲基硅氧烷 (PDMS) 甚至 PTFE (Teflon®) 等材料上，也可以进行高精度图案绘制。
COMPex F2 的一些关键优势
- 在 157 nm 或 193 nm 波长进行真空紫外光作业
- 在 157 nm 波长上输出 32 mJ 稳定脉冲能量
- 50 Hz 重复频率
- 带有真空法兰通道的气密光束路径
从实用的角度来看，新型 COMPex F2 激光器具有 COMPex 系列的全部优势。1) 它们是高效光源，具有紧凑的设计，且易于安装和操作。 2) 它们提供出色的脉冲能量和脉冲间稳定性、出色的光束均匀性和工业级全天候可靠性。
COMPex 激光器还在大多数 248 nm 和 308 nm 紫外波长应用中确立了标杆。 这些应用包括 PLD 薄膜生长，以及支持多种微电子应用的晶圆剥离。
COMPex 激光器也用于相干公司的最新 UVtransfer 工具，可帮助实现下一代 MicroLED 显示屏的自动化生产。
与其他 COMPex 激光器一样，COMPex F2 享有全面保修，保修期为自发票之日起 36 个月或 10 亿次脉冲（以先到者为准）。 我们还提供免费安装服务。
了解更多关于相干公司 COMPex 系列和我们最新 VUV 准分子激光器 COMPex F2 的信息
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